Topeng Foto
Photomask semikonduktor adalah filem berdasarkan proses fotolitografi. Topeng foto dalam semikonduktor ialah alat pemindahan grafik atau induk dalam proses pembuatan mikroelektronik, dan ia merupakan pembawa maklumat harta intelek seperti reka bentuk grafik dan teknologi proses. Photomask semikonduktor boleh dikelaskan kepada plat kromium, plat kering, plat pelepasan cecair dan filem mengikut kegunaannya.
Proses pembuatan photomask adalah seperti berikut: Mengikut corak yang diperlukan oleh pelanggan, kami salah satu pengeluar photomask semikonduktor terkemuka menggunakan proses fotolitografi untuk mengukir corak halus mikron dan tahap nano pada topeng. Bahan mentah topeng adalah kosong photomask fotosensitif untuk membuat corak photomask halus, dan kemudian lapisan logam dan lapisan gam yang tidak diperlukan dihanyutkan untuk mendapatkan plat pelekat semikonduktor.
- Penerangan
- Siasatan
Penerangan
Photomasks boleh dibahagikan kepada topeng kuarza, topeng soda dan lain-lain (termasuk plat pelega dan filem) mengikut bahan substrat yang berbeza. Secara khusus seperti berikut:
Semikonduktor photomask kuarza menggunakan kaca kuarza sebagai bahan substrat, yang mempunyai penghantaran optik yang tinggi dan kadar pengembangan haba yang rendah. Berbanding dengan kaca soda, ia lebih rata dan tahan haus serta mempunyai hayat perkhidmatan yang panjang. Photomask kuarza digunakan terutamanya untuk topeng berketepatan tinggi;
Topeng soda menggunakan kaca soda sebagai bahan substrat, yang mempunyai ketransmisian optik yang lebih tinggi, kadar pengembangan haba yang lebih tinggi daripada kaca kuarza, dan kerataan dan rintangan haus yang agak lemah daripada kaca kuarza. Ia digunakan terutamanya untuk topeng ketepatan sederhana dan rendah;
Reka bentuk pelega photomask menggunakan resin polybutadiena tak tepu sebagai bahan substrat, yang digunakan terutamanya untuk percetakan pad bahan berorientasikan dalam proses pembuatan paparan kristal cecair (LCD);
Reka bentuk topeng semikonduktor menggunakan PET sebagai bahan substrat, yang digunakan terutamanya untuk topeng papan litar.
1. Penyelesaian Photomask Semikonduktor
1.1 Photomask pada Substrat Kuarza
| Borang Pengesahan Maklumat Pelanggan | ||
| 1 | Nama Pelanggan | — |
| 2 | Saiz topeng | 5009 |
| 3 | CD SPEC(Pada topeng) | — |
| 4 | Skala Topeng | 5:01 |
| 5 | Gred Topeng | S |
| 6 | Bahan Topeng | Kuarza |
| 7 | Pelikel | Tiada |
| 8 | Jenis pelikel | Talian saya |
| 9 | Penghantaran data | FTP |
| 10 | JDV(Semakan pandangan kerja) | YES |
| 11 | Jenis mesin litografi | — |
| 12 | CD (padanan CD) | YES |
| 13 | Perlawanan pendaftaran | YES |
| 14 | Pemeriksaan Kecacatan | Mati untuk Mati/Mati ke Pangkalan Data |
| 15 | Benarkan Calar dalam 5mm di tepi | YES |
| topeng tetapi keluar daripada data | ||
| 16 | Permintaan istimewa | — |
Gred untuk Photomask pada Kuarza
| gred | D | C | B | A | S |
| toleransi | ±0.3 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 |
| Bermaksud untuk menyasarkan | ±0.3 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 |
| keseragaman | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.15 | 0.1 |
| Pendaftaran | ±0.4 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 |
| Saiz kecacatan | 1.5 | 1.5 | 1 | 0.8 | 0.6 |
| Ketumpatan kecacatan | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
1.2 1X Master Semiconductor Photomask pada Kuarza atau Soda Lime
| Produk | Ukuran | Bahan Substrat |
| Tuan 1X | 4 "X4" X0.060 "atau 0,090" | Kuarza dan Soda Limau |
| 5 "X5" X0.090 " | Kuarza dan Soda Limau | |
| 6 "X6" X0.120 "atau 0.250" | Kuarza dan Soda Limau | |
| 7 "X7" X0.120 "atau 0.150" | Kuarza dan Soda Limau | |
| 7.25 "Pusingan X 0.150" | Kuarza | |
| 9 "X9" X0.120 "atau 0.190" | Kuarza dan Soda Limau |
1.2.1 Spesifikasi Biasa untuk 1X Topeng Induk (Bahan Kuarza)
| Saiz CD | CD Mean-to-Nominal | Keseragaman CD | Pendaftaran | kecacatan Saiz |
| 2.0 um | ≤0.25 um | ≤0.25 um | ≤0.25 um | ≥2.0 um |
| 4.0 um | ≤0.30 um | ≤0.30 um | ≤0.30 um | ≥3.5 um |
1.2.2 Spesifikasi Biasa untuk 1X Topeng Induk (Bahan Soda Lime)
| Saiz CD | CD Mean-to-Nominal | Keseragaman CD | Pendaftaran | kecacatan Saiz |
| ≤4 um | ≤0.25 um | ———— | ≤0.25 um | ≥3.0 um |
| ≤4 um | ≤0.30 um | ———— | ≤0.45 um | ≥5.0 um |
1.3 Dimensi Topeng UT1X dan Bahan Substrat
| Produk | Ukuran | substrat bahan |
| UT1X | 3 ″ X5 ″ X0.090 ″ | Kuarza |
| 5 ″ X5 ″ X0.090 ″ | Kuarza | |
| 6 ″ X6 ″ X0.120 ″ atau 0.250 ″ | Kuarza |
Spesifikasi Umum untuk Topeng UT1X
| Saiz CD | CD Mean-to-Nominal | Keseragaman CD | Pendaftaran | kecacatan Saiz |
| 1.5 um | ≤0.15 um | ≤0.15 um | ≤0.15 um | ≥0.50 um |
| 3.0 um | ≤0.20 um | ≤0.20 um | ≤0.20 um | ≥0.60 um |
| 4.0 um | ≤0.25 um | ≤0.25 um | ≤0.20 um | ≥0.75 um |
1.4 Topeng Binari Standard
| Produk | Ukuran | Bahan Substrat |
| 2X | 6 ″ X 6 ″ X0.250 ″ | Kuarza |
| 2.5X | ||
| 4X | ||
| 5X | 5 ″ X5 ″ X0.090 ″ | Kuarza |
| 6 ″ X6 ″ X0.250 ″ | Kuarza |
Spesifikasi Umum untuk Topeng Binari Standard
| Saiz CD | CD Mean-to-Nominal | Keseragaman CD | Pendaftaran | kecacatan Saiz |
| 2.0 um | ≤0.10 um | ≤0.15 um | ≤0.10 um | ≥0.50 um |
| 3.0 um | ≤0.15 um | ≤0.15 um | ≤0.15 um | ≥0.75 um |
| 4.0 um | ≤0.20 um | ≤0.20 um | ≤0.20 um | ≥1.00 um |
1.5 Topeng Kawasan Sederhana
| Produk | Ukuran | Bahan Substrat |
| 1X | 9 ″ X9 ″ 0.120 ″ | Kuarza Soda Lime (kedua-dua penyerap Chrome dan Iron Oxide tersedia) |
| 9 ″ X9 ″ 0.190 ″ | Kuarza |
1.5.1 Spesifikasi Biasa untuk Topeng Kawasan Sederhana (Bahan Kuarza)
| Saiz CD | CD Mean-to-Nominal | Keseragaman CD | Pendaftaran | kecacatan Saiz |
| 0.50 um | ≤0.20 um | ———— | ≤0.15 um | ≥1.50 um |
1.5.2 Spesifikasi Biasa untuk Topeng Kawasan Sederhana (Bahan Soda Lime)
| Saiz CD | CD Mean-to-Nominal | Keseragaman CD | Pendaftaran | kecacatan Saiz |
| 10 um | ≤4.0 um | ———— | ≤4.0 um | ≥10 um |
| 4 um | ≤2.0 um | ———— | ≤1.0 um | ≥5 um |
| 2.5 um | ≤0.5 um | ———— | ≤0.75 um | ≥3 um |
