Masque photo
Le photomasque semi-conducteur est un film basé sur le procédé de photolithographie. Le photomasque en semi-conducteur est un outil de transfert graphique ou un maître dans le processus de fabrication de la microélectronique, et il est porteur d'informations de propriété intellectuelle telles que la conception graphique et la technologie des processus. Le photomasque semi-conducteur peut être classé en plaques de chrome, plaques sèches, plaques en relief liquide et film en fonction de leurs utilisations.
Le processus de fabrication du photomasque est le suivant : selon le modèle requis par le client, nous, l'un des principaux fabricants de photomasques à semi-conducteurs, utilisons le processus de photolithographie pour graver des motifs fins au niveau micron et nano sur le masque. La matière première du masque est une ébauche de photomasque photosensible pour fabriquer de fins motifs de photomasque, puis la couche de métal et la couche de colle inutiles sont lavées pour obtenir la plaque de masquage semi-conductrice.
- La description
- Demande
Description
Les photomasques peuvent être divisés en masques de quartz, masques de soude et autres (y compris les plaques en relief et les films) selon différents matériaux de substrat. Plus précisément comme suit :
Le semi-conducteur de photomasque à quartz utilise du verre de quartz comme matériau de substrat, qui a une transmission optique élevée et un faible taux de dilatation thermique. Comparé au verre sodo, il est plus plat et résistant à l'usure et a une longue durée de vie. Le photomasque à quartz est principalement utilisé pour les masques de haute précision;
Le masque à soude utilise du verre à soude comme matériau de substrat, qui a une transmission optique plus élevée, un taux de dilatation thermique relativement plus élevé que le verre de quartz, et une planéité et une résistance à l'usure relativement plus faibles que le verre de quartz. Il est principalement utilisé pour les masques de moyenne et basse précision ;
La conception de photomasque en relief utilise une résine de polybutadiène insaturé comme matériau de substrat, qui est principalement utilisée pour la tampographie de matériau orienté dans le processus de fabrication des écrans à cristaux liquides (LCD);
La conception du masque semi-conducteur utilise le PET comme matériau de substrat, qui est principalement appliqué pour les masques de circuits imprimés.
1. Solutions de photomasques semi-conducteurs
1.1 Photomasque sur substrat de quartz
Formulaire de confirmation des informations client | ||
1 | Nom du client | - |
2 | Taille du masque | 5009 |
3 | CD SPEC (sur le masque) | - |
4 | Échelle de masque | 05h01 |
5 | Catégorie de masque | S |
6 | Matériau du masque | Quartz |
7 | Pellicule | Aucun |
8 | Type de pellicule | I-Ligne |
9 | Envoi de données | FTP |
10 | JDV (vérification Jobview) | OUI |
11 | Type de machine de lithographie | - |
12 | CD (correspondance de CD) | OUI |
13 | Match d'inscription | OUI |
14 | Inspection des défauts | Mourir pour mourir/Mourir à la base de données |
15 | Autoriser les rayures à moins de 5 mm sur le bord de | OUI |
le masque mais hors des données | ||
16 | Demande spéciale | - |
Nuances pour Photomask sur Quartz
Qualité | ré | C | B | UNE | S |
Tolérance | ±0,3 | ±0,3 | ±0,2 | ±0,15 | ±0,1 |
Moyen à cibler | ±0,3 | ±0,3 | ±0,2 | ±0,15 | ±0,1 |
Uniformité | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.15 | 0.1 |
Inscription | ±0,4 | ±0,3 | ±0,2 | ±0,15 | ±0,1 |
Taille du défaut | 1.5 | 1.5 | 1 | 0.8 | 0.6 |
densité de défauts | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
1.2 1X Master Semiconductor Photomask sur quartz ou chaux sodée
Produit | Dimensions | substrat Matériaux |
1X Maître | 4” x4” X0.060” ou 0,090” | Quartz et Soda Lime |
5” X5” X0.090” | Quartz et Soda Lime | |
6” X6” X0.120” ou 0,250” | Quartz et Soda Lime | |
7” x7” X0.120” ou 0,150” | Quartz et Soda Lime | |
7.25” Round X 0,150” | Quartz | |
9” X9” X0.120” ou 0,190” | Quartz et Soda Lime |
1.2.1 Spécifications communes pour les masques maîtres 1X (matériau quartz)
Taille CD | CD Moyenne à nominal | CD uniformité | Inscription | Taille du défaut |
2,0 um | ≤0.25 um | ≤0.25 um | ≤0.25 um | ≥2.0 um |
4,0 um | ≤0.30 um | ≤0.30 um | ≤0.30 um | ≥3.5 um |
1.2.2 Spécification commune pour les masques maîtres 1X (matériau à la chaux sodée)
Taille CD | CD Moyenne à nominal | CD uniformité | Inscription | Taille du défaut |
≤4 um | ≤0.25 um | ---- | ≤0.25 um | ≥3.0 um |
≤4 um | ≤0.30 um | ---- | ≤0.45 um | ≥5.0 um |
1.3 Dimensions du masque UT1X et matériaux de substrat
Produit | Dimensions | Matériau du substrat |
UT1X | 3 "X5" X0.090 " | Quartz |
5 "X5" X0.090 " | Quartz | |
6 "X6" X0.120 "ou 0,250" | Quartz |
Caractéristiques communes pour Masques UT1X
Taille CD | CD Moyenne à nominal | CD uniformité | Inscription | Taille du défaut |
1,5 um | ≤0.15 um | ≤0.15 um | ≤0.15 um | ≥0.50 um |
3,0 um | ≤0.20 um | ≤0.20 um | ≤0.20 um | ≥0.60 um |
4,0 um | ≤0.25 um | ≤0.25 um | ≤0.20 um | ≥0.75 um |
1.4 Masque binaire standard
Produit | Dimensions | substrat Matériaux |
2X | 6 "x 6" X0.250 " | Quartz |
2.5X | ||
4X | ||
5X | 5 "X5" X0.090 " | Quartz |
6 "X6" X0.250 " | Quartz |
Caractéristiques communes pour masques binaires standard
Taille CD | CD Moyenne à nominal | CD uniformité | Inscription | Taille du défaut |
2,0 um | ≤0.10 um | ≤0.15 um | ≤0.10 um | ≥0.50 um |
3,0 um | ≤0.15 um | ≤0.15 um | ≤0.15 um | ≥0.75 um |
4,0 um | ≤0.20 um | ≤0.20 um | ≤0.20 um | ≥1.00 um |
1.5 Masques de zone moyenne
Produit | Dimensions | substrat Matériaux |
1X | 9 "X9" 0,120 " | Chaux sodée à quartz (absorbeurs de chrome et d'oxyde de fer disponibles) |
9 "X9" 0,190 " | Quartz |
1.5.1 Spécifications communes pour les masques de zone moyenne (matériau en quartz)
Taille CD | CD Moyenne à nominal | CD uniformité | Inscription | Taille du défaut |
0,50 um | ≤0.20 um | ---- | ≤0.15 um | ≥1.50 um |
1.5.2 Spécifications communes pour les masques de surface moyenne (matériau à la chaux sodée)
Taille CD | CD Moyenne à nominal | CD uniformité | Inscription | Taille du défaut |
10 um | ≤4.0 um | ---- | ≤4.0 um | ≥10 um |
4 um | ≤2.0 um | ---- | ≤1.0 um | ≥5 um |
2,5 um | ≤0.5 um | ---- | ≤0.75 um | ≥3 um |