フォトマスク
半導体フォトマスクは、フォトリソグラフィープロセスに基づくフィルムです。 半導体のフォトマスクは、マイクロエレクトロニクス製造プロセスのグラフィック転送ツールまたはマスターであり、グラフィックデザインやプロセス技術などの知的財産情報のキャリアです。 半導体フォトマスクは、用途に応じてクロム板、乾板、液体レリーフ板、フィルムに分類できます。
フォトマスクの製造工程は次のとおりです。お客様のご要望に応じて、当社の大手半導体フォトマスクメーカーの1社がフォトリソグラフィープロセスを使用して、マスクにミクロンおよびナノレベルの微細パターンを刻印しています。 マスクの原料は、微細なフォトマスクパターンを作るための感光性フォトマスクブランクであり、その後、不要な金属層と接着剤層を洗い流して、半導体マスキングプレートを得る。
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説明
フォトマスクは、基板の材質に応じて、石英マスク、ソーダマスクなど（レリーフプレートやフィルムを含む）に分けることができます。 具体的には次のとおりです。
石英フォトマスク半導体は、光透過率が高く、熱膨張率が低い石英ガラスを基板材料として使用しています。 ソーダガラスと比較して、より平坦で耐摩耗性があり、長寿命です。 クォーツフォトマスクは、主に高精度マスクに使用されます。
ソーダマスクは、基板材料としてソーダガラスを使用しており、石英ガラスよりも光透過率が高く、熱膨張率が比較的高く、石英ガラスよりも平坦性と耐摩耗性が比較的弱い。 これは主に中精度および低精度のマスクに使用されます。
レリーフフォトマスクの設計では、不飽和ポリブタジエン樹脂を基板材料として使用します。これは主に、液晶ディスプレイ（LCD）の製造プロセスで配向材料パッド印刷に使用されます。
半導体マスクの設計では、基板材料としてPETを使用しており、主に回路基板のマスクに使用されます。
1.半導体フォトマスクソリューション
1.1クォーツ基板上のフォトマスク
| 顧客情報確認フォーム | ||
| 1 | 顧客名 | — |
| 2 | マスクサイズ | 5009 |
| 3 | CDSPEC（マスク上） | — |
| 4 | マスクスケール | 5:01 |
| 5 | マスクグレード | S |
| 6 | マスク素材 | 石英 |
| 7 | ペリクル | なし |
| 8 | ペリクルタイプ | I-Line |
| 9 | データ送信 | FTP |
| 10 | JDV（ジョブビューチェック） | YES |
| 11 | リソグラフィーマシンタイプ | — |
| 12 | CD（CDマッチ） | YES |
| 13 | 登録マッチ | YES |
| 14 | 欠陥検査 | Die to Die / Die to Database |
| 15 | の端に5mm以内の引っかき傷を許可します | YES |
| マスクですがデータがありません | ||
| 16 | 特別リクエスト | — |
クォーツのフォトマスクのグレード
| グレード | D | C | B | あ | S |
| 公差 | ±0.3 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 |
| ターゲットとする手段 | ±0.3 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 |
| 均一 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.15 | 0.1 |
| 登録 | ±0.4 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 |
| 欠陥サイズ | 1.5 | 1.5 | 1 | 0.8 | 0.6 |
| 欠陥密度 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
1.2クォーツまたはソーダライム上の1Xマスター半導体フォトマスク
| 製品 | 寸法 | 基板材料 |
| 1Xマスター | 4” X4” X0.060” 又は0.090” | クォーツとソーダライム |
| 5” X5” X0.090” | クォーツとソーダライム | |
| 6” X6” X0.120” または0.250” | クォーツとソーダライム | |
| 7” X7” X0.120” または0.150” | クォーツとソーダライム | |
| 7.25” ラウンドX 0.150” | 石英 | |
| 9” X9” X0.120” または0.190” | クォーツとソーダライム |
1.2.1 1Xマスターマスクの一般的な仕様（石英素材）
| CDサイズ | CD平均ツー公称 | CD均一性 | 登録 | 欠陥サイズ |
| 2.0 umの | ≤0.25ええと | ≤0.25ええと | ≤0.25ええと | ≥2.0ええと |
| 4.0 umの | ≤0.30ええと | ≤0.30ええと | ≤0.30ええと | ≥3.5ええと |
1.2.2 1Xマスターマスクの共通仕様（ソーダライム素材）
| CDサイズ | CD平均ツー公称 | CD均一性 | 登録 | 欠陥サイズ |
| ≤4ええと | ≤0.25ええと | ---- | ≤0.25ええと | ≥3.0ええと |
| ≤4ええと | ≤0.30ええと | ---- | ≤0.45ええと | ≥5.0ええと |
1.3UT1Xマスクの寸法と基板の材質
| 製品 | 寸法 | 基板材料 |
| UT1X | 3 "X5" X0.090 " | 石英 |
| 5 "X5" X0.090 " | 石英 | |
| 6 "X6" X0.120」または0.250 " | 石英 |
UT1Xマスクの一般的な仕様
| CDサイズ | CD平均ツー公称 | CD均一性 | 登録 | 欠陥サイズ |
| 1.5 umの | ≤0.15ええと | ≤0.15ええと | ≤0.15ええと | ≥0.50ええと |
| 3.0 umの | ≤0.20ええと | ≤0.20ええと | ≤0.20ええと | ≥0.60ええと |
| 4.0 umの | ≤0.25ええと | ≤0.25ええと | ≤0.20ええと | ≥0.75ええと |
1.4標準バイナリマスク
| 製品 | 寸法 | 基板材料 |
| 2X | 6 "X 6" X0.250 " | 石英 |
| 2.5X | ||
| 4X | ||
| 5X | 5 "X5" X0.090 " | 石英 |
| 6 "X6" X0.250 " | 石英 |
標準バイナリマスクの一般的な仕様
| CDサイズ | CD平均ツー公称 | CD均一性 | 登録 | 欠陥サイズ |
| 2.0 umの | ≤0.10ええと | ≤0.15ええと | ≤0.10ええと | ≥0.50ええと |
| 3.0 umの | ≤0.15ええと | ≤0.15ええと | ≤0.15ええと | ≥0.75ええと |
| 4.0 umの | ≤0.20ええと | ≤0.20ええと | ≤0.20ええと | ≥1.00ええと |
1.5ミディアムエリアマスク
| 製品 | 寸法 | 基板材料 |
| 1X | 9 "X9" 0.120 " | クォーツソーダライム（クロムと酸化鉄の両方の吸収剤が利用可能） |
| 9 "X9" 0.190 " | 石英 |
1.5.1中面積マスクの一般的な仕様（石英素材）
| CDサイズ | CD平均ツー公称 | CD均一性 | 登録 | 欠陥サイズ |
| 0.50 umの | ≤0.20ええと | ---- | ≤0.15ええと | ≥1.50ええと |
1.5.2ミディアムエリアマスクの一般的な仕様（ソーダライム素材）
| CDサイズ | CD平均ツー公称 | CD均一性 | 登録 | 欠陥サイズ |
| 10ええと | ≤4.0ええと | ---- | ≤4.0ええと | ≥10ええと |
| 4ええと | ≤2.0ええと | ---- | ≤1.0ええと | ≥5ええと |
| 2.5 umの | ≤0.5ええと | ---- | ≤0.75ええと | ≥3UM |
