Foto maske
Semiconductor fotomaske er en film baseret på fotolitografiproces. Fotomasken i semiconductor er et grafisk overførselsværktøj eller master i mikroelektronikfremstillingsprocessen, og den er en bærer af intellektuel ejendomsinformation såsom grafisk design og procesteknologi. Halvlederfotomaske kan klassificeres i kromplader, tørre plader, flydende reliefplader og film i henhold til deres anvendelser.
Fremstillingsprocessen for fotomasker er som følger: I henhold til det mønster, kunden kræver, bruger vi en af førende halvlederfotomaskeproducenter fotolitografiprocessen til at gravere fine mønstre på mikron og nanoniveau på masken. Råmaterialet i masken er en lysfølsom fotomaskeemner til fremstilling af fine fotomaskemønstre, og derefter vaskes det unødvendige metallag og limlag væk for at opnå halvledermaskeringspladen.
- Beskrivelse
- Forespørgsel
Beskrivelse
Fotomasker kan opdeles i kvartsmasker, sodavandsmasker og andre (inklusive reliefplader og film) efter forskellige substratmaterialer. Helt konkret som følger:
Kvarts fotomaske-halvleder bruger kvartsglas som substratmateriale, som har høj optisk transmittans og lav termisk ekspansionshastighed. Sammenlignet med sodaglas er det mere fladt og slidstærkt og har en lang levetid. Kvartsfotomaske bruges hovedsageligt til højpræcisionsmasker;
Sodamasken bruger sodaglas som substratmateriale, som har højere optisk transmittans, relativt højere termisk ekspansionshastighed end kvartsglas og relativt svagere fladhed og slidstyrke end kvartsglas. Det bruges hovedsageligt til masker med medium og lav præcision;
Relieffotomaskedesignet bruges med umættet polybutadienharpiks som substratmateriale, som hovedsageligt bruges til orienteret materiale-pudeprint i fremstillingsprocessen af flydende krystalskærme (LCD);
Halvledermaskedesignet bruger PET som substratmateriale, som hovedsageligt anvendes til printkortmasker.
1. Semiconductor Photomask Solutions
1.1 Fotomaske på kvartssubstrat
Formular til bekræftelse af kundeoplysninger | ||
1 | Kundenavn | — |
2 | Maske størrelse | 5009 |
3 | CD SPEC (på maske) | — |
4 | Maske skala | 5:01 |
5 | Maskeklasse | S |
6 | Maske materiale | Quartz |
7 | Pellicle | Ingen |
8 | Pellicle type | I-Line |
9 | Dataafsendelse | FTP |
10 | JDV (Jobvisningskontrol) | JA |
11 | Litografi maskine type | — |
12 | CD (CD match) | JA |
13 | Tilmeldingskamp | JA |
14 | Fejlinspektion | Die to Die/Die to Database |
15 | Tillad ridser inden for 5 mm på kanten af | JA |
masken, men ude af dataene | ||
16 | Særlig anmodning | — |
Karakterer for fotomaske på kvarts
Grad | D | C | B | EN | S |
Tolerance | ±0,3 | ±0,3 | ±0,2 | ±0,15 | ±0,1 |
Betyde at målrette | ±0,3 | ±0,3 | ±0,2 | ±0,15 | ±0,1 |
ensartethed | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.15 | 0.1 |
Registrering | ±0,4 | ±0,3 | ±0,2 | ±0,15 | ±0,1 |
Defekt størrelse | 1.5 | 1.5 | 1 | 0.8 | 0.6 |
Defektdensitet | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
1,2 1X Master Semiconductor Photomask på kvarts eller sodavand
Produkt | Dimensioner | Underlagsmaterialer |
1X Master | 4 ”X4” X0.060 ”eller 0.090” | Kvarts og sodakalk |
5 ”X5” X0.090 ” | Kvarts og sodakalk | |
6 ”X6” X0.120 ”eller 0.250” | Kvarts og sodakalk | |
7 ”X7” X0.120 ”eller 0.150” | Kvarts og sodakalk | |
7,25 ”Runde X 0,150” | Quartz | |
9 ”X9” X0.120 ”eller 0.190” | Kvarts og sodakalk |
1.2.1 Fælles specifikationer for 1X mastermasker (kvartsmateriale)
CD-størrelse | CD middel til nominel | CD-ensartethed | Registrering | defekt Størrelse |
2,0 um | ≤0,25 um | ≤0,25 um | ≤0,25 um | ≥2,0 um |
4,0 um | ≤0,30 um | ≤0,30 um | ≤0,30 um | ≥3,5 um |
1.2.2 Fælles specifikation for 1X Master Masks (Soda Lime Materiale)
CD-størrelse | CD middel til nominel | CD-ensartethed | Registrering | defekt Størrelse |
≤4 um | ≤0,25 um | ———— | ≤0,25 um | ≥3,0 um |
≤4 um | ≤0,30 um | ———— | ≤0,45 um | ≥5,0 um |
1.3 UT1X-maskedimensioner og underlagsmaterialer
Produkt | Dimensioner | substrat Materiale |
UT1X | 3 ″ X5 ″ X0.090 ″ | Quartz |
5 ″ X5 ″ X0.090 ″ | Quartz | |
6 ″ X6 ″ X0.120 ″ eller 0.250 ″ | Quartz |
Almindelige specifikationer for UT1X-masker
CD-størrelse | CD middel til nominel | CD-ensartethed | Registrering | defekt Størrelse |
1,5 um | ≤0,15 um | ≤0,15 um | ≤0,15 um | ≥0,50 um |
3,0 um | ≤0,20 um | ≤0,20 um | ≤0,20 um | ≥0,60 um |
4,0 um | ≤0,25 um | ≤0,25 um | ≤0,20 um | ≥0,75 um |
1.4 Standard binær maske
Produkt | Dimensioner | Underlagsmaterialer |
2X | 6 ″ X 6 ″ X0.250 ″ | Quartz |
2,5X | ||
4X | ||
5X | 5 ″ X5 ″ X0.090 ″ | Quartz |
6 ″ X6 ″ X0.250 ″ | Quartz |
Almindelige specifikationer for standard binære masker
CD-størrelse | CD middel til nominel | CD-ensartethed | Registrering | defekt Størrelse |
2,0 um | ≤0,10 um | ≤0,15 um | ≤0,10 um | ≥0,50 um |
3,0 um | ≤0,15 um | ≤0,15 um | ≤0,15 um | ≥0,75 um |
4,0 um | ≤0,20 um | ≤0,20 um | ≤0,20 um | ≥1,00 um |
1,5 Medium Area Masker
Produkt | Dimensioner | Underlagsmaterialer |
1X | 9 ″ X9 ″ 0,120 ″ | Quartz Soda Lime (både krom- og jernoxidabsorbere fås) |
9 ″ X9 ″ 0.190 ″ | Quartz |
1.5.1 Fælles specifikationer for masker med medium areal (kvartsmateriale)
CD-størrelse | CD middel til nominel | CD-ensartethed | Registrering | defekt Størrelse |
0,50 um | ≤0,20 um | ———— | ≤0,15 um | ≥1,50 um |
1.5.2 Fælles specifikationer for masker med medium areal (sodakalkmateriale)
CD-størrelse | CD middel til nominel | CD-ensartethed | Registrering | defekt Størrelse |
10 um | ≤4,0 um | ———— | ≤4,0 um | ≥10 um |
4 um | ≤2,0 um | ———— | ≤1,0 um | ≥5 um |
2,5 um | ≤0,5 um | ———— | ≤0,75 um | ≥3 um |