Foto Mask

Foto maske

Semiconductor fotomaske er en film baseret på fotolitografiproces. Fotomasken i semiconductor er et grafisk overførselsværktøj eller master i mikroelektronikfremstillingsprocessen, og den er en bærer af intellektuel ejendomsinformation såsom grafisk design og procesteknologi. Halvlederfotomaske kan klassificeres i kromplader, tørre plader, flydende reliefplader og film i henhold til deres anvendelser.

Fremstillingsprocessen for fotomasker er som følger: I henhold til det mønster, kunden kræver, bruger vi en af ​​førende halvlederfotomaskeproducenter fotolitografiprocessen til at gravere fine mønstre på mikron og nanoniveau på masken. Råmaterialet i masken er en lysfølsom fotomaskeemner til fremstilling af fine fotomaskemønstre, og derefter vaskes det unødvendige metallag og limlag væk for at opnå halvledermaskeringspladen.

Beskrivelse

Fotomasker kan opdeles i kvartsmasker, sodavandsmasker og andre (inklusive reliefplader og film) efter forskellige substratmaterialer. Helt konkret som følger:

Kvarts fotomaske-halvleder bruger kvartsglas som substratmateriale, som har høj optisk transmittans og lav termisk ekspansionshastighed. Sammenlignet med sodaglas er det mere fladt og slidstærkt og har en lang levetid. Kvartsfotomaske bruges hovedsageligt til højpræcisionsmasker;

Sodamasken bruger sodaglas som substratmateriale, som har højere optisk transmittans, relativt højere termisk ekspansionshastighed end kvartsglas og relativt svagere fladhed og slidstyrke end kvartsglas. Det bruges hovedsageligt til masker med medium og lav præcision;

Relieffotomaskedesignet bruges med umættet polybutadienharpiks som substratmateriale, som hovedsageligt bruges til orienteret materiale-pudeprint i fremstillingsprocessen af ​​flydende krystalskærme (LCD);

Halvledermaskedesignet bruger PET som substratmateriale, som hovedsageligt anvendes til printkortmasker.

1. Semiconductor Photomask Solutions

1.1 Fotomaske på kvartssubstrat

Formular til bekræftelse af kundeoplysninger
1 Kundenavn
2 Maske størrelse 5009
3 CD SPEC (på maske)
4 Maske skala 5:01
5 Maskeklasse S
6 Maske materiale Quartz
7 Pellicle Ingen
8 Pellicle type I-Line
9 Dataafsendelse FTP
10 JDV (Jobvisningskontrol) JA
11 Litografi maskine type
12 CD (CD match) JA
13 Tilmeldingskamp JA
14 Fejlinspektion Die to Die/Die to Database
15 Tillad ridser inden for 5 mm på kanten af JA
masken, men ude af dataene
16 Særlig anmodning

 

Karakterer for fotomaske på kvarts

Grad D C B EN S
Tolerance ±0,3 ±0,3 ±0,2 ±0,15 ±0,1
Betyde at målrette ±0,3 ±0,3 ±0,2 ±0,15 ±0,1
ensartethed 0.2 0.2 0.2 0.15 0.1
Registrering ±0,4 ±0,3 ±0,2 ±0,15 ±0,1
Defekt størrelse 1.5 1.5 1 0.8 0.6
Defektdensitet 0 0 0 0 0

 

1,2 1X Master Semiconductor Photomask på kvarts eller sodavand

Produkt Dimensioner Underlagsmaterialer
1X Master 4 ”X4” X0.060 ”eller 0.090” Kvarts og sodakalk
5 ”X5” X0.090 ” Kvarts og sodakalk
6 ”X6” X0.120 ”eller 0.250” Kvarts og sodakalk
7 ”X7” X0.120 ”eller 0.150” Kvarts og sodakalk
7,25 ”Runde X 0,150” Quartz
9 ”X9” X0.120 ”eller 0.190” Kvarts og sodakalk

 

1.2.1 Fælles specifikationer for 1X mastermasker (kvartsmateriale)

CD-størrelse CD middel til nominel CD-ensartethed Registrering defekt Størrelse
2,0 um ≤0,25 um ≤0,25 um ≤0,25 um ≥2,0 um
4,0 um ≤0,30 um ≤0,30 um ≤0,30 um ≥3,5 um

 

1.2.2 Fælles specifikation for 1X Master Masks (Soda Lime Materiale)

CD-størrelse CD middel til nominel CD-ensartethed Registrering defekt Størrelse
≤4 um ≤0,25 um ———— ≤0,25 um ≥3,0 um
≤4 um ≤0,30 um ———— ≤0,45 um ≥5,0 um

 

1.3 UT1X-maskedimensioner og underlagsmaterialer

Produkt Dimensioner substrat Materiale
UT1X 3 ″ X5 ″ X0.090 ″ Quartz
5 ″ X5 ″ X0.090 ″ Quartz
6 ″ X6 ″ X0.120 ″ eller 0.250 ″ Quartz

 

Almindelige specifikationer for UT1X-masker

CD-størrelse CD middel til nominel CD-ensartethed Registrering defekt Størrelse
1,5 um ≤0,15 um ≤0,15 um ≤0,15 um ≥0,50 um
3,0 um ≤0,20 um ≤0,20 um ≤0,20 um ≥0,60 um
4,0 um ≤0,25 um ≤0,25 um ≤0,20 um ≥0,75 um

 

1.4 Standard binær maske

Produkt Dimensioner Underlagsmaterialer
2X 6 ″ X 6 ″ X0.250 ″ Quartz
2,5X
4X
5X 5 ″ X5 ″ X0.090 ″ Quartz
6 ″ X6 ″ X0.250 ″ Quartz

 

Almindelige specifikationer for standard binære masker

CD-størrelse CD middel til nominel CD-ensartethed Registrering defekt Størrelse
2,0 um ≤0,10 um ≤0,15 um ≤0,10 um ≥0,50 um
3,0 um ≤0,15 um ≤0,15 um ≤0,15 um ≥0,75 um
4,0 um ≤0,20 um ≤0,20 um ≤0,20 um ≥1,00 um

 

1,5 Medium Area Masker

Produkt Dimensioner Underlagsmaterialer
1X 9 ″ X9 ″ 0,120 ″ Quartz Soda Lime (både krom- og jernoxidabsorbere fås)
9 ″ X9 ″ 0.190 ″ Quartz

 

1.5.1 Fælles specifikationer for masker med medium areal (kvartsmateriale)

CD-størrelse CD middel til nominel CD-ensartethed Registrering defekt Størrelse
0,50 um ≤0,20 um ———— ≤0,15 um ≥1,50 um

 

1.5.2 Fælles specifikationer for masker med medium areal (sodakalkmateriale)

CD-størrelse CD middel til nominel CD-ensartethed Registrering defekt Størrelse
10 um ≤4,0 um ———— ≤4,0 um ≥10 um
4 um ≤2,0 um ———— ≤1,0 um ≥5 um
2,5 um ≤0,5 um ———— ≤0,75 um ≥3 um

    er blevet tilføjet til din indkøbskurv:
    Checkout