Fotomask
Halvledarfotomask är en film baserad på fotolitografiprocess. Fotomasken i halvledare är ett grafiskt överföringsverktyg eller mästare i tillverkningsprocessen för mikroelektronik, och den är en bärare av information om immateriella rättigheter såsom grafisk design och processteknik. Halvledarfotomasker kan klassificeras i kromplattor, torra plattor, vätskeavlastningsplattor och film enligt deras användningsområden.
Tillverkningsprocessen för fotomasker är som följer: Enligt det mönster som kunden kräver använder vi en av de ledande tillverkare av halvledarfotomasker fotolitografiprocessen för att gravera fina mönster på mikron och nanonivå på masken. Råmaterialet för masken är en ljuskänslig fotomask-ämnen för att göra fina fotomaskmönster, och sedan tvättas det onödiga metallskiktet och limskiktet bort för att erhålla halvledarmaskeringsplattan.
- Beskrivning
- Förfrågan
Beskrivning
Fotomasker kan delas in i kvartsmasker, sodamasker och andra (inklusive reliefplattor och film) enligt olika substratmaterial. Närmare bestämt enligt följande:
Kvarts fotomask halvledare använder kvartsglas som substratmaterial, som har hög optisk transmittans och låg termisk expansionshastighet. Jämfört med sodaglas är det mer platt och slitstarkt och har en lång livslängd. Kvartsfotomask används främst för högprecisionsmasker;
Sodamasken använder sodaglas som substratmaterial, vilket har högre optisk transmittans, relativt högre termisk expansionshastighet än kvartsglas och relativt svagare planhet och slitstyrka än kvartsglas. Den används främst för masker med medel och låg precision;
Relieffotomaskdesignen används med omättat polybutadienharts som substratmaterial, vilket huvudsakligen används för orienterat material för tramptryck i tillverkningsprocessen av flytande kristallskärmar (LCD);
Halvledarmaskdesignen använder PET som substratmaterial, vilket huvudsakligen används för kretskortsmasker.
1. Halvledarfotomasklösningar
1.1 Fotomask på kvartssubstrat
Bekräftelseformulär för kundinformation | ||
1 | Köparens namn | - |
2 | Maskstorlek | 5009 |
3 | CD SPEC (På mask) | - |
4 | Mask Skala | 05:01 |
5 | Mask Betyg | S |
6 | Maskmaterial | Kvarts |
7 | Pellicle | Inget |
8 | Pellicle typ | I-Line |
9 | Datasändning | FTP |
10 | JDV (Jobbvisningskontroll) | JA |
11 | Litografi maskintyp | - |
12 | CD (CD-match) | JA |
13 | Registreringsmatch | JA |
14 | Defektinspektion | Die to Die/Die to Database |
15 | Tillåt Scratch inom 5 mm på kanten av | JA |
masken men utanför data | ||
16 | Särskild begäran | - |
Betyg för Photomask on Quartz
Kvalitet | D | C | B | A | S |
Tolerans | ±0,3 | ±0,3 | ±0,2 | ±0,15 | ±0,1 |
Menar att måla | ±0,3 | ±0,3 | ±0,2 | ±0,15 | ±0,1 |
Enhetlighet | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.15 | 0.1 |
Registrering | ±0,4 | ±0,3 | ±0,2 | ±0,15 | ±0,1 |
Defekt storlek | 1.5 | 1.5 | 1 | 0.8 | 0.6 |
Defektdensitet | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
1,2 1X Master Semiconductor Photomask på kvarts eller sodakalk
Produkt | Dimensioner | Underlagsmaterial |
1X Master | 4 ”X4” X0.060 ”eller 0,090” | Kvarts och Soda Lime |
5 ”X5” X0.090 ” | Kvarts och Soda Lime | |
6 ”X6” X0.120 ”eller 0.250” | Kvarts och Soda Lime | |
7 ”X7” X0.120 ”eller 0.150” | Kvarts och Soda Lime | |
7,25 ”rund X 0,150” | Kvarts | |
9 ”X9” X0.120 ”eller 0.190” | Kvarts och Soda Lime |
1.2.1 Vanliga specifikationer för 1X mastermasker (kvartsmaterial)
CD-storlek | CD medelvärde till nominell | CD-enhetlighet | Registrering | defekt Storlek |
2,0 um | ≤0,25 um | ≤0,25 um | ≤0,25 um | ≥2,0 um |
4,0 um | ≤0,30 um | ≤0,30 um | ≤0,30 um | ≥3,5 um |
1.2.2 Gemensam specifikation för 1X Master Masks (Soda Lime Material)
CD-storlek | CD medelvärde till nominell | CD-enhetlighet | Registrering | defekt Storlek |
≤4 um | ≤0,25 um | ---- | ≤0,25 um | ≥3,0 um |
≤4 um | ≤0,30 um | ---- | ≤0,45 um | ≥5,0 um |
1.3 UT1X-maskdimensioner och substratmaterial
Produkt | Dimensioner | substrat Material |
UT1X | 3 ″ X5 ″ X0.090 ″ | Kvarts |
5 ″ X5 ″ X0.090 ″ | Kvarts | |
6 ″ X6 ″ X0.120 ″ eller 0.250 ″ | Kvarts |
Vanliga specifikationer för UT1X-masker
CD-storlek | CD medelvärde till nominell | CD-enhetlighet | Registrering | defekt Storlek |
1,5 um | ≤0,15 um | ≤0,15 um | ≤0,15 um | ≥0,50 um |
3,0 um | ≤0,20 um | ≤0,20 um | ≤0,20 um | ≥ 0,60 um |
4,0 um | ≤0,25 um | ≤0,25 um | ≤0,20 um | ≥0,75 um |
1.4 Standard binär mask
Produkt | Dimensioner | Underlagsmaterial |
2X | 6 ″ X 6 ″ X0.250 ″ | Kvarts |
2,5X | ||
4X | ||
5X | 5 ″ X5 ″ X0.090 ″ | Kvarts |
6 ″ X6 ″ X0.250 ″ | Kvarts |
Vanliga specifikationer för vanliga binära masker
CD-storlek | CD medelvärde till nominell | CD-enhetlighet | Registrering | defekt Storlek |
2,0 um | ≤0,10 um | ≤0,15 um | ≤0,10 um | ≥0,50 um |
3,0 um | ≤0,15 um | ≤0,15 um | ≤0,15 um | ≥0,75 um |
4,0 um | ≤0,20 um | ≤0,20 um | ≤0,20 um | ≥1,00 um |
1.5 Masker för medelstort område
Produkt | Dimensioner | Underlagsmaterial |
1X | 9 ″ X9 ″ 0,120 ″ | Quartz Soda Lime (både krom- och järnoxidabsorbenter tillgängliga) |
9 ″ X9 ″ 0.190 ″ | Kvarts |
1.5.1 Vanliga specifikationer för masker med medelstor yta (kvartsmaterial)
CD-storlek | CD medelvärde till nominell | CD-enhetlighet | Registrering | defekt Storlek |
0,50 um | ≤0,20 um | ---- | ≤0,15 um | ≥1,50 um |
1.5.2 Vanliga specifikationer för medelstora masker (Soda Lime Material)
CD-storlek | CD medelvärde till nominell | CD-enhetlighet | Registrering | defekt Storlek |
10 um | ≤4,0 um | ---- | ≤4,0 um | ≥10 um |
4 um | ≤2,0 um | ---- | ≤1,0 um | ≥5 um |
2,5 um | ≤0,5 um | ---- | ≤0,75 um | ≥3 um |