foto Mask

Fotomask

Halvledarfotomask är en film baserad på fotolitografiprocess. Fotomasken i halvledare är ett grafiskt överföringsverktyg eller mästare i tillverkningsprocessen för mikroelektronik, och den är en bärare av information om immateriella rättigheter såsom grafisk design och processteknik. Halvledarfotomasker kan klassificeras i kromplattor, torra plattor, vätskeavlastningsplattor och film enligt deras användningsområden.

Tillverkningsprocessen för fotomasker är som följer: Enligt det mönster som kunden kräver använder vi en av de ledande tillverkare av halvledarfotomasker fotolitografiprocessen för att gravera fina mönster på mikron och nanonivå på masken. Råmaterialet för masken är en ljuskänslig fotomask-ämnen för att göra fina fotomaskmönster, och sedan tvättas det onödiga metallskiktet och limskiktet bort för att erhålla halvledarmaskeringsplattan.

Beskrivning

Fotomasker kan delas in i kvartsmasker, sodamasker och andra (inklusive reliefplattor och film) enligt olika substratmaterial. Närmare bestämt enligt följande:

Kvarts fotomask halvledare använder kvartsglas som substratmaterial, som har hög optisk transmittans och låg termisk expansionshastighet. Jämfört med sodaglas är det mer platt och slitstarkt och har en lång livslängd. Kvartsfotomask används främst för högprecisionsmasker;

Sodamasken använder sodaglas som substratmaterial, vilket har högre optisk transmittans, relativt högre termisk expansionshastighet än kvartsglas och relativt svagare planhet och slitstyrka än kvartsglas. Den används främst för masker med medel och låg precision;

Relieffotomaskdesignen används med omättat polybutadienharts som substratmaterial, vilket huvudsakligen används för orienterat material för tramptryck i tillverkningsprocessen av flytande kristallskärmar (LCD);

Halvledarmaskdesignen använder PET som substratmaterial, vilket huvudsakligen används för kretskortsmasker.

1. Halvledarfotomasklösningar

1.1 Fotomask på kvartssubstrat

Bekräftelseformulär för kundinformation
1 Köparens namn -
2 Maskstorlek 5009
3 CD SPEC (På mask) -
4 Mask Skala 05:01
5 Mask Betyg S
6 Maskmaterial Kvarts
7 Pellicle Inget
8 Pellicle typ I-Line
9 Datasändning FTP
10 JDV (Jobbvisningskontroll) JA
11 Litografi maskintyp -
12 CD (CD-match) JA
13 Registreringsmatch JA
14 Defektinspektion Die to Die/Die to Database
15 Tillåt Scratch inom 5 mm på kanten av JA
masken men utanför data
16 Särskild begäran -

 

Betyg för Photomask on Quartz

Kvalitet D C B A S
Tolerans ±0,3 ±0,3 ±0,2 ±0,15 ±0,1
Menar att måla ±0,3 ±0,3 ±0,2 ±0,15 ±0,1
Enhetlighet 0.2 0.2 0.2 0.15 0.1
Registrering ±0,4 ±0,3 ±0,2 ±0,15 ±0,1
Defekt storlek 1.5 1.5 1 0.8 0.6
Defektdensitet 0 0 0 0 0

 

1,2 1X Master Semiconductor Photomask på kvarts eller sodakalk

Produkt Dimensioner Underlagsmaterial
1X Master 4 ”X4” X0.060 ”eller 0,090” Kvarts och Soda Lime
5 ”X5” X0.090 ” Kvarts och Soda Lime
6 ”X6” X0.120 ”eller 0.250” Kvarts och Soda Lime
7 ”X7” X0.120 ”eller 0.150” Kvarts och Soda Lime
7,25 ”rund X 0,150” Kvarts
9 ”X9” X0.120 ”eller 0.190” Kvarts och Soda Lime

 

1.2.1 Vanliga specifikationer för 1X mastermasker (kvartsmaterial)

CD-storlek CD medelvärde till nominell CD-enhetlighet Registrering defekt Storlek
2,0 um ≤0,25 um ≤0,25 um ≤0,25 um ≥2,0 um
4,0 um ≤0,30 um ≤0,30 um ≤0,30 um ≥3,5 um

 

1.2.2 Gemensam specifikation för 1X Master Masks (Soda Lime Material)

CD-storlek CD medelvärde till nominell CD-enhetlighet Registrering defekt Storlek
≤4 um ≤0,25 um ---- ≤0,25 um ≥3,0 um
≤4 um ≤0,30 um ---- ≤0,45 um ≥5,0 um

 

1.3 UT1X-maskdimensioner och substratmaterial

Produkt Dimensioner substrat Material
UT1X 3 ″ X5 ″ X0.090 ″ Kvarts
5 ″ X5 ″ X0.090 ″ Kvarts
6 ″ X6 ″ X0.120 ″ eller 0.250 ″ Kvarts

 

Vanliga specifikationer för UT1X-masker

CD-storlek CD medelvärde till nominell CD-enhetlighet Registrering defekt Storlek
1,5 um ≤0,15 um ≤0,15 um ≤0,15 um ≥0,50 um
3,0 um ≤0,20 um ≤0,20 um ≤0,20 um ≥ 0,60 um
4,0 um ≤0,25 um ≤0,25 um ≤0,20 um ≥0,75 um

 

1.4 Standard binär mask

Produkt Dimensioner Underlagsmaterial
2X 6 ″ X 6 ″ X0.250 ″ Kvarts
2,5X
4X
5X 5 ″ X5 ″ X0.090 ″ Kvarts
6 ″ X6 ″ X0.250 ″ Kvarts

 

Vanliga specifikationer för vanliga binära masker

CD-storlek CD medelvärde till nominell CD-enhetlighet Registrering defekt Storlek
2,0 um ≤0,10 um ≤0,15 um ≤0,10 um ≥0,50 um
3,0 um ≤0,15 um ≤0,15 um ≤0,15 um ≥0,75 um
4,0 um ≤0,20 um ≤0,20 um ≤0,20 um ≥1,00 um

 

1.5 Masker för medelstort område

Produkt Dimensioner Underlagsmaterial
1X 9 ″ X9 ″ 0,120 ″ Quartz Soda Lime (både krom- och järnoxidabsorbenter tillgängliga)
9 ″ X9 ″ 0.190 ″ Kvarts

 

1.5.1 Vanliga specifikationer för masker med medelstor yta (kvartsmaterial)

CD-storlek CD medelvärde till nominell CD-enhetlighet Registrering defekt Storlek
0,50 um ≤0,20 um ---- ≤0,15 um ≥1,50 um

 

1.5.2 Vanliga specifikationer för medelstora masker (Soda Lime Material)

CD-storlek CD medelvärde till nominell CD-enhetlighet Registrering defekt Storlek
10 um ≤4,0 um ---- ≤4,0 um ≥10 um
4 um ≤2,0 um ---- ≤1,0 um ≥5 um
2,5 um ≤0,5 um ---- ≤0,75 um ≥3 um

    har lagts till i din varukorg:
    Kassan