Ganwafer は、1990 年以来、半導体材料の開発と製造において前例のない専門知識と専門知識を蓄積してきました。さらに、包括的な技術と高度な生産プラットフォームを所有しており、プレミアム半導体ウエハーとカスタム サービスを提供する上で大きな競争上の優位性を生み出しています。
サービスキャパシティ
- 研究者や法人ユーザー向けに、各種半導体単結晶、ウェーハ基板、エピタキシャルウェーハ、技術相談などを承ります。
- ウェーハダイシングサービス、ウェーハ研磨サービス、ウェーハエッチングサービス、ウェーハテストサービスなどのウェーハ処理サービスを提供できます。
- お客様のニーズと予算に合わせて、カスタム仕様 (III-V エピ ウエハーなど) を少量で行うことができます。
- 最先端の技術と豊富な経験により、お客様からのさまざまな質問に、より適切に答えることができます。
テクニカルサポート
- さまざまなデバイスのウェーハ エピタキシー (例: SiC 上の SiC、AlN/GaN HEMT 再成長)。
- 機械、光学、電子分野などのさまざまなアプリケーションにおけるSiC、GaN、またはIII-Vに関するさまざまな研究。
- RF/電源アプリケーションのサポート;
- LED アプリケーションのサポート;
- HEMT ウェーハ アプリケーションのサポート。
- 高温デバイスおよび光電子デバイスのウェーハ アプリケーション。
半導体材料ソリューションのサプライヤーとして、当社のサービス能力と専門知識はお客様に支持されています。 厳格な品質管理を備えた多様な製品ラインにより、国内外の大学や研究機関との関係を築くことができます。 どのようなデバイスを製造する場合でも、お客様に最適な半導体ウェーハを提供できます。
私たちは継続的に製品ポートフォリオを増やし、クライアントにアプリケーションやより多くのもののための幅広い選択肢を提供することを目指しています. 一方、当社の専門家チームは、特に SiC、GaN、および III-V グループの半導体材料において、お客様のアプリケーション向けに高品質のソリューションを提供することに重点を置いています。