Safir veya Silikon Şablonda Yarı Yalıtımlı GaN

Safir veya Silikon Şablonda Yarı Yalıtımlı GaN

Ganwafer’s Template Products includes  4” and 2” Semi-Insulating GaN on Sapphire/Silicon Substrates, which are epi-ready.

Tanım

1. Safir Şablonda Yarı Yalıtımlı GaN Özellikleri

1.1 4 inç Yarı Yalıtımlı GaN/Safir Yüzeyler

tem GANW-T-GaN-100-SI
Boyut 100 ±0,1 mm
Kalınlığı 1,8 ± 0,5 µm
GaN Oryantasyonu C düzlemi (0001) A eksenine doğru açı 0,2 ±0,1°
GaN Oryantasyon Düzlüğü (1-100) 0 ±0.2°, 16 ±1 mm
iletim tipi Yarı yalıtım
Direnç (300K) > 105 Ω·cm
Taşıyıcı Konsantrasyon >1x1018cm-3(≈doping konsantrasyonu)
Hareketlilik ~ 200cm2 / V·s
Çıkığı Yoğunluk < 5x108cm-2(XRD'nin FWHM'leri ile tahmin edilmiştir)
yapı 1.8 μm GaN/~ 50 nm uGaN tampon katmanı/430 ±25 μm safir
Safir Oryantasyonu C düzlemi (0001) M eksenine doğru kapalı açı 0,2 ±0,1°
Safir Oryantasyon Daire (11-20) 0 ±0.2°, 16 ±1 mm
Yüzey Pürüzlülüğü: Ön taraf: Ra<0.5nm, epi-hazır;
Arka taraf: kazınmış veya cilalı.
Kullanılabilir Alan > %90 (kenar ve makro kusurları hariç tutma)
Paket her biri tek gofret kapta, nitrojen atmosferi altında, sınıf 100 temiz odada paketlenmiştir

 

1.2 2 inç Yarı Yalıtımlı GaN/Safir Yüzeyler

madde GANW-T-GaN-50-SI
Boyut 50,8 ±0,1 mm
Kalınlığı 1,8 ± 0,5 µm
GaN Oryantasyonu C düzlemi (0001) A eksenine doğru açı 0,2 ±0,1°
GaN Oryantasyon Düzlüğü (1-100) 0 ±0.2°, 16 ±1 mm
iletim tipi Yarı yalıtım
Direnç (300K) > 105 Ω·cm
Taşıyıcı Konsantrasyon >1x1018cm-3(≈doping konsantrasyonu)
Hareketlilik ~ 200cm2 / V·s
Çıkığı Yoğunluk < 5x108cm-2(XRD'nin FWHM'leri ile tahmin edilmiştir)
yapı 1.8 μm GaN/~ 50 nm uGaN tampon katmanı/430 ±25 μm safir
Safir Oryantasyonu C düzlemi (0001) M eksenine doğru kapalı açı 0,2 ±0,1°
Safir Oryantasyon Daire (11-20) 0 ±0.2°, 16 ±1 mm
Yüzey Pürüzlülüğü: Ön taraf: Ra<0.5nm, epi-hazır;
Arka taraf: kazınmış veya cilalı.
Kullanılabilir Alan > %90 (kenar ve makro kusurları hariç tutma)
Paket her biri tek gofret kapta, nitrojen atmosferi altında, sınıf 100 temiz odada paketlenmiştir

 

2. Silikon Şablonunda Yarı Yalıtımlı GaN Listesi

Tanım Tip takviyenin substrat Boyutu GaN kalınlığı Yüzey
4″ Silikon Gofret üzerinde GaN Şablonu, GaN film Yarı yalıtım - Si (111) substratlar 4 " 2um tek tarafı cilalı
2″ Silikon Gofret üzerinde GaN Şablonu, GaN film Yarı yalıtım - Si (111) substratlar 2 " 2um tek tarafı cilalı

 

Açıklama:
Çin hükümeti, yarı iletken yongaları yapmak için kullanılan Galyum malzemelerinin (GaAs, GaN, Ga2O3, GaP, InGaAs ve GaSb gibi) ve Germanyum malzemelerinin ihracatına ilişkin yeni sınırlar duyurdu. 1 Ağustos 2023'ten itibaren, bu malzemelerin ihracatına yalnızca Çin Ticaret Bakanlığı'ndan lisans almamız halinde izin verilmektedir. Anlayışınız için umut!

    sepetinize eklendi:
    Çıkış