En como oblea

En como oblea

Compound semiconductor indium arsenide (InAs) wafer for sale is composed of indium and arsenic III-V elements grown by LEC (Liquid Encapsulated Czochralski). Ganwafer offers indium arsenide substrate in epi-ready or mechanical grade with n type, p type or semi-insulating in different orientations as terahertz radiation source.

El semiconductor compuesto de arseniuro de indio es un material de banda prohibida directa, que es similar al arseniuro de galio (GaAs). A veces, InAs se usa con InP. InAs se alea con GaAs formando arseniuro de indio y galio. Más especificaciones de la oblea de arseniuro de indio, consulte lo siguiente:

Descripción

1. Especificaciones de la oblea InAs

1.1. Especificación de oblea de arseniuro de indio de 4″

Artículo Especificaciones
dopante bajo dopado estaño Azufre Zinc
Tipo de conducción N-tipo N-tipo N-tipo Tipo P
Diámetro de la oblea 4 "
oblea de Orientación (100) ± 0,5 °
Espesor de la oblea 900±25um
Longitud plana primaria 16±2 mm
Secundaria plana Longitud 8±1mm
concentración de portadores 5×1016cm-3 (5-20)x1017cm-3 (1-10)x1017cm-3 (1-10)x1017cm-3
Movilidad ≥2×104cm2/vs 7000-20000cm2/vs 6000-20000cm2/vs 100-400cm2/vs
EPD <5×104cm-2 <5×104cm-2 <3×104cm-2 <3×104cm-2
TTV <15um
ARCO <15um
DEFORMACIÓN <20um
marcado por láser a pedido
Acabado de la superficie P / E, P / P

 

1.2. Especificación de sustrato de arseniuro de indio de 3″

Artículo Especificaciones
dopante bajo dopado estaño Azufre Zinc
Tipo de conducción N-tipo N-tipo N-tipo Tipo P
Diámetro de la oblea 3 "
oblea de Orientación (100) ± 0,5 °
Espesor de la oblea 600±25um
Longitud plana primaria 22 ± 2 mm
Secundaria plana Longitud 11±1mm
concentración de portadores 5×1016cm-3 (5-20)x1017cm-3 (1-10)x1017cm-3 (1-10)x1017cm-3
Movilidad ≥2×104cm2/vs 7000-20000cm2/vs 6000-20000cm2/vs 100-400cm2/vs
EPD <5×104cm-2 <5×104cm-2 <3×104cm-2 <3×104cm-2
TTV <12um
ARCO <12um
DEFORMACIÓN <15um
marcado por láser a pedido
Acabado de la superficie P / E, P / P
Epi listo
Paquete Recipiente o casete de una oblea
Epi listo
Paquete Recipiente o casete de una oblea

 

1.3. Especificación de oblea InAs de semiconductor compuesto de 2″

Artículo Especificaciones
dopante bajo dopado estaño Azufre Zinc
Tipo de conducción N-tipo N-tipo N-tipo Tipo P
Diámetro de la oblea 2 "
oblea de Orientación (100) ± 0,5 °
Espesor de la oblea 500±25um
Longitud plana primaria 16±2 mm
Secundaria plana Longitud 8±1mm
concentración de portadores 5×1016cm-3 (5-20)x1017cm-3 (1-10)x1017cm-3 (1-10)x1017cm-3
Movilidad ≥2×104cm2/vs 7000-20000cm2/vs 6000-20000cm2/vs 100-400cm2/vs
EPD <5×104cm-2 <5×104cm-2 <3×104cm-2 <3×104cm-2
TTV <10um
ARCO <10um
DEFORMACIÓN <12um
marcado por láser a pedido
Acabado de la superficie P / E, P / P
Epi listo
Paquete Recipiente o casete de una oblea

 

2. Mapa de planitud cosido de la oblea InAs:

Stitched Flatness Map of InAs Wafer

3. Aplicaciones de arseniuro de indio

El cristal de arseniuro de indio tiene una alta movilidad de electrones y una relación de movilidad (μe/μh=70), un efecto de resistencia magneto baja y un coeficiente de resistencia de temperatura pequeño. Por lo tanto, la solución de arseniuro de indio es ideal para fabricar dispositivos Hall y dispositivos magnetorresistivos.

El sustrato InAs monocristalino puede hacer crecer InAsSb/InAsPSb, InAsPSb y otros materiales de heteroestructura para producir dispositivos emisores de luz infrarroja con una longitud de onda de 2-12 um.

Los sustratos monocristalinos de arseniuros de indio también se pueden usar para hacer crecer epitaxialmente materiales de estructura de superred de InAsPSb para producir láseres de cascada cuántica de infrarrojo medio. Estos dispositivos infrarrojos tienen buenas perspectivas de aplicación en los campos de detección de gases y comunicación por fibra óptica de baja pérdida.

4. Influencia del proceso de recocido en las capas de acumulación de electrones superficiales de la oblea InAs

Utilice la espectroscopia Raman para investigar el efecto de la temperatura de recocido en las propiedades ópticas de las capas de acumulación de electrones de la superficie de la oblea de arseniuro de indio tipo n (100). El resultado muestra que los picos Raman causados ​​por fonones LO no apantallados desaparecerán cuando aumente la temperatura. También podemos ver que la capa de acumulación de electrones en la superficie de arseniuro de indio se elimina mediante recocido. El mecanismo analizado por difracción de rayos X, espectroscopía de fotoelectrones de rayos X y microscopía electrónica de transmisión de alta resolución muestra fases amorfas de In2O3 y As2O3 acumuladas en el sustrato de la oblea de InAs durante el proceso de recocido; una fina película cristalina de As formada en la interfaz entre la capa de óxido y el sustrato de la oblea, lo que conduce a una disminución del espesor de la capa de electrones de la superficie.

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