1240nm InP Laser Diode Strukturer

InP Laser Diode Wafer

1240nm InP Laser Diode Strukturer

InP (Indium Phosphide) materialesystem inkluderer ternært og kvaternærtIII-V halvledermaterialer, such as InGaAs, InGaAsP, InAlGaAs and InAlAsP, which are lattice matched to InP substrate. Among them, quaternary alloy of InAlGaAs lattice matched to InP is an important material for optoelectronic devices. Ganwafer can provide InP laser wafer of Grinsch (GRIN) structure with InAlGaAs epilayers as follows:

1. InGaAlAs / InP Laser Epi-strukturer

No.1 Epi Laser på InP Substrat

GANW200729-1240nmLD

1 InP Substrate

(Materiale nr.:M01*)

S-Dopded

2~8 x 1018

cm-3
2 N-InP Buffer Layer

(Koncentration)

- um

(cm-3)

3 N-InAlAs Layer

(Koncentration)

- um

(cm-3)

4 U-GRIN AlQ (AlT til 0,96) 0,1 um um
5 5 x QW / 6 x Barrier

PL=1248,5 nm)

- nm

(nm)

6 U-GRIN AlQ (0,96 til AlT) - um
7 U-InAlAs lag - um
8 P-InP Layer

(Koncentration)

- um

(cm-3)

9 P-1.1um InGaAsP

(Koncentration)

- um

(cm-3)

10 P-InP Layer

(Koncentration)

- um

(cm-3)

11 P-InGaAsP Layer

(Koncentration)

- um

(cm-3)

12 P-InGaAs Layer

(Koncentration)

0.2 um

(>1 x 1019)

um

(cm-3)

13 Gitter uoverensstemmelse <±500 ppm

 

Nr.2 Laserstruktur med InAlGaAs QW

GANW200730-1240nmLD

Lag nr. Materiale d (nm) Dybde (nm) Doping (cm)
1 n – InP 3″ substrat (S-doteret) n=2-8e18
2 n – lnP - - -
3 n – InAlAs - - -
4 u-GRIN AIQ (0,96 til AIT) - - N / A
5 6 x u-InAlGaAs QW (+1% CS)/

5 x u-InAlGaAs-barriere (-0,5 % TS)
PL=1242 nm)

- - N / A
6 u-GRIN AIQ (AIT til 0,96) - - N / A
7 u- InAlAs - 962.5 N / A
8 p-InP - - -
9 p+-1,3 um InGaAsP (LM) - - -
10 p+-1,5 um InGaAsP (LM) - - -
11 p++- InGaAs- Kap 100 - p>1e19

 

Bemærkning:GRIN AlQ (AlT til 0,96): Lag nr. 4 og nr. 6 er graderede bølgelederlag, og sammensætningen ændres fra InAlAs til InAlGaAs med bølgelængde på 0,96um.

Det er blevet rapporteret, at laserstruktur baseret på GRIN-SCH har forskellige fordele i forhold til STEP-SCH-baserede nanostrukturer, såsom højere injektionseffektivitet, højere indfangningseffektivitet, betydeligt kortere dopingtid og forbedret bærerindeslutning.

2. InAlGaAs Materiale til InP Laser Diode

Med hensyn til InAlGaAs / InAlAs heterostruktur på InP kan båndgab-energien revideres mellem den for In0.53ga0.47Som og i0.52Al0.48Som. Desuden er InAlGaAs lettere at vokse med MBE. Der er kun et V-gruppeelement. Derfor kan legeringssammensætningen nemt ændres ved at justere gruppe III-stråleækvivalenttrykforholdet, hvilket bedre kontrollerer forholdet mellem As/P under væksten af ​​InGaAsP.

Brydningsindeksforholdet mellem bølgeleder og beklædning af InAlGaAs / InP heterostruktur er højere end det for InGaAsP / InP med identisk båndgab, hvilket gør InAlGaAs mere attraktive end InGaAsP i forskellige applikationer. Derudover kan båndgabet af InAlGaAs nemt varieres, men gitteret matcher stadig InP wafer under den epitaksiale vækst. AlGaInAs / InP materialesystemet blev indført i det aktive område, fordi det højere optiske kan opnås. Derfor spiller InAlGaAs-materiale en mere og mere vigtig rolle ved fremstilling af langbølgelængde-halvlederbølgelederenheder (f.eks. InP-laserfremstilling).

For mere information, kontakt os venligst e-mail på sales@ganwafer.com og tech@ganwafer.com.

Del dette indlæg