LED Epi na Sapphire

LED Epi na Sapphire

GaN LED epitaxy wafer is offered by LED Epi on Sapphire Manufacturer – Ganwafer for LED and laser diodes (LD) application, such as for micro LED or UV LED researches. Epitaxy wafer for LED is by MOCVD with PSS or flat sapphire for LCD back light, mobile, electronic or UV(ultraviolet), with blue or green or red emission, including InGaN/GaN active area and AlGaN layers with GaN well/AlGaN barrier for different chip sizes.

Popis

Specifikace GaN na Al2O3 – 2” epi wafer (LED Epitaxial wafer):

UV: 365+/-5 nm

UV: 405+/-5 nm

Bílá: 445-460nm

Modrá: 465-475nm

Zelená: 510-530nm

1. Modrá nebo zelená LED dioda Epi na Sapphire Wafer

1.1 Struktura Micro LED Eipitaxy na Sapphire Wafer

Vrstvy struktury Tloušťka (μm)
p-GaN 0.2
p-AlGaN 0.03
InGaN / GaN (aktivní oblast) 0.2
n-GaN 2.5
u-GaN 3.5
Al2O3 (substrát)

 

1.2 Specifikace modré nebo zelené LED diody Epi Wafer na safírovém substrátu

Položka Requirememt rozsah
Technologie růstu MOCVD
Průměr destičky 2″ nebo 4″ (vezměte si 4″příklad níže)
Materiál oplatkového substrátu Plochý safírový substrát nebo vzorovaný safírový substrát
substrát průměr 100 mm +/-0,25 mm
substrát tloušťka 650 um +/-25um
c-rovina(0001), úhel odříznutí směrem k m-rovině 0,2 deg +/-0,1 stupně
jediná primární plochá délka 30 mm +/-1 mm
Plochá orientace letadlo
PL emisní vlnová délka 450-460nm (modrá)
520-530nm (zelená)
PL vlnová délka FWHM 17-18 (modrá)
30-35 (zelená)
Houpací křivka XRD (002) =<200 +/-20
Houpací křivka XRD (102) =<200 +/-20
Povrch přední strany, AFM (5*5 um2) Ra <0,5 nm
klanění oplatky <45 +/-10
Celková tloušťka LED 5,5 um +/-0,2 um
Celková změna tloušťky 3%
Hustota defektů (makroskopická) <5E8/cm-2

 

1.3 Testovací data LED epitaxe

002 102 In_comp InGaN_THK GaN_THK Pár_THK
178.6 193.2 9.48 41.7 82.5 124.2

 

WLP_Avge WLP_Std PI_Avge PI_Std WLD_Avge WLD_Std INT_Avge INT_Std
448.34 3.729 1.673 0.494 454.999 2.747 117.883 0.167

 

HW_Avge HW_Std TH_Avge TH_Std PR_Průměr PR_Std LOP_Avge LOP_Std
16.387 6.1 0.092 290.56 7.176 136.312 0.874 2060

 

2. UV LED Epi na Sapphire

Struktura plátku, 365nm nebo 405nm:

P-AlGaN

AlGaN EBL

Sekačky AlGaN/InGaN

N-SLS

N-AlGaN

Nedopovaný AlGaN

Safírový substrát

 

Remark:
The Chinese government has announced new limits on the exportation of Gallium materials (such as GaAs, GaN, Ga2O3, GaP, InGaAs, and GaSb) and Germanium materials used to make semiconductor chips. From August 1, 2023 on, exporting these materials is only allowed if we obtains a license from the Chinese Ministry of Commerce. Hope for your understanding!

    bylo přidáno do vašeho košíku:
    Pokladna